產品中心
PRODUCTS CNTER相關文章
RELATED ARTICLES這款CVD系統集真空管式爐,多通道氣路系統和真空系統組成,可根據用戶需要設計生產(有雙溫區、三溫區、多溫區),可預抽真空(有高真空、低真空),通多種氣氛(供氣系統有質子流量器和浮子流量控制器)。性能可靠??刂齐娐愤x用模糊PID程控技術,具有控溫精度高,溫沖幅度小,性能可靠,簡單易操作等特點。
這款管式爐以優質硅鉬棒為加熱元件,采用雙層殼體結構,廈門宇電30段程序控溫系統,移相觸發、可控硅控制,爐膛采用進口高純氧化鋁多晶體纖維材料,雙層爐殼間配有風冷系統,能快速升降溫,采用高純剛玉管、兩端用不銹鋼法蘭密封,可選用浮子流量計控制進氣流量、該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點;
立式管式氣氛爐主要用于玻璃、生物陶瓷、石墨烯、鋰電正負極材料、晶體退火、LED發光材料等領域,進行氣氛保護下對樣品進行熱處理、燒結、沉積鍍膜、灰分測量等場合。
PECVD系統是一種基于等離子體化學氣相沉積技術的薄膜沉積設備,能夠對各種材料進行薄膜沉積,包括金屬、半導體、絕緣體等。PECVD技術在微電子、光電、平板顯示、儲能等領域具有重要的應用價值。
真空管式氣氛爐集成加熱系統、混氣系統、真空系統、循環水冷卻系統,外形美觀大方,結構設計先進合理,真空管式氣氛爐采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統,爐膛采用進口氧化鋁多晶體纖維材料,保溫節能。
旋轉式管式爐專為燒結無機化合物獲得較好的一致性而設計,適合航空航天、新能源,LED發光材料等行業,爐體可傾斜30°,爐管可360°旋轉。爐子在旋轉同時下可通入氮氣、氬氣、氫氣等保護性氣體, 也可外接真空泵在真空狀態下加熱使用。